Horiba汽化器 MV-2000系列實現高效的汽化，即使在低溫情況下也可通過螺旋式加熱達到汽化效果。此種汽化方式適用于半導體制造工藝，諸如“High-k”——一種易熱解的液體源

產品描述

商品詳情

混合注入型液體汽化器 MV-2000

用于易熱解的液體

概要

Horiba汽化器 MV-2000系列實現高效的汽化，即使在低溫情況下也可通過螺旋式加熱達到汽化效果。此種汽化方式適用于半導體制造工藝，諸如“High-k”——一種易熱解的液體源

特征

以螺旋加熱式完成穩定的低溫汽化
大流量汽化（增加穩定性數據）
可汽化易熱解的液體源

技術參數

型號	MV-2000
液體名稱	所有液體，除對不銹鋼有腐蝕的(如. HCl, HF)
設定溫度	取決于汽化條件(控制閥 : 上限140 ?C ，汽化器 : 上限200 ?C)
泄露率	≤ 1 × 10-8 Pa·m3 /s (He)
內部泄露率	≤ 1 × 10-6 Pa·m3 /s (He)
接液材質	SUS316L , PFA
溫度傳感器	Thermocouple type K (CA)
耐壓	1MPa (G)
接口尺寸	液體入口: 1/8”MVCR 載氣入口: 1/4 FVCR 氣體出口: 1/2 MVCR
操作溫	15 - 50 ?C
可選項	閥門(內漏率: ≤ 1×10-9 Pa · m3 / s(He) )

汽化器產生的氣體流量取決于液體的特性，汽化條件等多種參數。
汽化器內有加熱器、溫度傳感器、溫度開關。

液體源汽化系統

HORIBA的液體源汽化系統包括三種不同類型的汽化方式：直接注入式、混合注入式、直接加熱式。我們的產品嚴格遵守半導體市場不斷更新的要求。我們利用監測/汽化原理制作產品，比如壓差監測法或HORIBA更早前開發的應用于液體流量計的冷卻法，以及螺旋式的混合注入系統。我們多種不同的汽化系統以及流量控制器可提供您多種不同的選擇方式。
HORIBA還擁有高精度、高速數字流量響應的液體流量控制器和液體流量計。

HORIBA對于以下幾種液體材料有著豐富的經驗

Acetic Acid	Benzene	B(OCH3)3	BTBAS	C6F6
Cyclohexane	Decyl-TMOS	DPM	DPMS	Ethanol
Ge(OCH3)4	GeCl4	H2O	HCD	HDFDA
HMDS	HMDSO	i-Octane	IPA	Me-Cyclohexane
Methanol	n-Octane	OMCTS	OMTS	P(OCH3)3
PO(OCH3)3	SAM24	Si(CH3)4	Si(OCH3)4	SiCH3Cl3
SiCl4	SiH(OCH3)3	SiHCl3	Ta(OC2H5)5	TBTDETa
TDEAHf	TDEAT	TDMAS	TDMAT	TEB
TEMAHf	TEMAZr	TEOS	TEPO	THF
Ti(O-iPr)4	TiCl4	TMCTS	Toluene	1,3-DMA

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MV-2000 混合注入型液體汽化器

Horiba汽化器 MV-2000系列實現高效的汽化，即使在低溫情況下也可通過螺旋式加熱達到汽化效果。此種汽化方式適用于半導體制造工藝，諸如“High-k”——一種易熱解的液體源

商品詳情

混合注入型液體汽化器 MV-2000

用于易熱解的液體

概要

特征

液體源汽化系統

HORIBA對于以下幾種液體材料有著豐富的經驗